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入口日本掩模版代理清关学问科普,助你躲闪入口风险 掩模版(mask)简称掩模,是光刻工艺不能穷乏的部件。掩模上承载有诡计图形,明后透过它,把诡计图形透射在光刻胶上。掩模的性能径直决定了光刻工艺的质地。在投影式光刻机中,掩模动作一个光学元件位于汇聚透镜(condenser lens)与投影透镜(projection lens)之间,它并不和晶圆有径直斗殴。掩模上的图形松开4~10倍(当代光刻机一般齐是松开4倍)后透射在晶圆名义。为了分手斗殴式曝光中使用的掩模,投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式
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