入口日本掩模版代理清关学问科普,助你躲闪入口风险
2024-08-04入口日本掩模版代理清关学问科普,助你躲闪入口风险 掩模版（mask）简称掩模，是光刻工艺不能穷乏的部件。掩模上承载有诡计图形，明后透过它，把诡计图形透射在光刻胶上。掩模的性能径直决定了光刻工艺的质地。在投影式光刻机中，掩模动作一个光学元件位于汇聚透镜（condenser lens）与投影透镜（projection lens）之间，它并不和晶圆有径直斗殴。掩模上的图形松开4~10倍（当代光刻机一般齐是松开4倍）后透射在晶圆名义。为了分手斗殴式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式