音尘东说念主士称，SK Hynix量产的1c DRAM上有五个极紫外(EUV)层，其中一层将使用MOR绘图。

IT之家 5 月 30 日音尘，跟着 DRAM 微型化的不断激动，SK 海力士、三星电子等公司正在勤恳于于新材料的建树和垄断。

据 TheElec，SK Hynix 筹谋在第 6 代（1c 工艺，约 10nm）DRAM 的分娩中使用 Inpria 下一代金属氧化物光刻胶（MOR），这是 MOR 初度垄断于 DRAM 量产工艺。

音尘东说念主士称，SK Hynix 量产的 1c DRAM 上有五个极紫外 (EUV) 层，其中一层将使用 MOR 绘图。他还补充说，配资者“不仅 SK 海力士，三星电子也将追求这类无机 PR 材料。”

IT之家查询公开贵寓获悉，Inpria 是日本化学公司 JSR 的子公司，亦然无机光刻胶领域的教唆者；而 MOR 则被以为是现在用于先进芯片光刻的化学放大光刻胶（CAR）的下一代居品。

此外，该公司自 2022 年以来就一直与 SK Hynix 配合进行 MOR 谈论。SK Hynix 此前曾暗示，使用 Sn（基）氧化物光刻胶将有助于提盘曲一代 DRAM 的性能并镌汰老本。

TheElec 报说念还指出，三星电子也在研讨将 MOR 垄断于 1c DRAM，现在三星电子在 1c DRAM 上垄断了 6 至 7 个 EUV 层，而好意思光则只垄断了 1 层。

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